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Cible rotatoire de pulvérisation de produits de molybdène de tube pour la cible de revêtement de cible de molybdène de tube de molybdène de cible de magnétron
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xDétails sur le produit
| nom | Cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron | Matériel | molybdène |
|---|---|---|---|
| Pureté | 99,95% | Densité | 10.2g/cm3 |
| Forme | Type de tube | Taille | coutume selon le dessin |
| Surface | Lumineux | Port d'exportation | Tout port en Chine |
| Mettre en évidence | Produits de molybdène de PRM,Produits de molybdène de tube,Cible rotatoire de pulvérisation |
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Description de produit
Cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron
1. Description de cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron :
La cible rotatoire de pulvérisation de molybdène est une cible de magnétron, qui est habituellement transformée en forme cylindrique avec un aimant stationnaire à l'intérieur, qui tournera à un à basse vitesse lors du fonctionnement. Les spécifications produit communes sont comme suit : ID-133/OD-157x 3191mm ; ID-133/OD-157 X 3855mm ; ID-160/OD-180x1800mm. Nous offrons à molybdène les cibles rotatoires dans diverses tailles normales, et pouvons également être usinés selon les exigences spécifiques du client.
Des matériaux de revêtement sous forme de cibles de pulvérisation de rotation de molybdène sont employés pour produire des couches de molybdène pour des contacts ou des TFT de CLOPES de retour pour les écrans à panneau plat (TFT LCD, OLED). Les cibles tournantes monolithiques n'ont aucun revêtement et sont ont donc construit avec du matériel 100% de revêtement. Ces cibles peuvent de manière significative améliorer la représentation de pulvérisation tout en permettant une sortie plus élevée. Ainsi, le rendement matériel accru réduit également le coût de fabrication dans le processus de revêtement comparé aux cibles tournantes collées.
2. caractéristiques de cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron :
Il a des exigences de bonne marche, telles que la température d'utilisation de la cible tournante de molybdène est 1800°C, la température d'utilisation la plus élevée est 2310°C, la densité est 10,2 g/cm3, et la pureté est 99,95%, ainsi elle est employée souvent dans la préparation des piles solaires, du verre architectural, du verre des véhicules à moteur, des semi-conducteurs, des TV à panneau plat, etc.
3. avantage de cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron :
La cible tournante de molybdène est une méthode pour améliorer le taux d'utilisation de cible de pulvérisation de molybdène. Comparé à la cible planaire de molybdène, la conception de la structure de cible tournante de molybdène montre les avantages substantiels de la cible de pulvérisation de molybdène. La vie de cible est définie comme temps de puissance de pulvérisation pulvérisant le temps, ou toute l'épaisseur de matériel qui peut être déposée sur le substrat. Le changement de la géométrie et de la conception de la cible plate de molybdène à la cible rotatoire de molybdène a augmenté le taux d'utilisation de la cible, et le taux d'utilisation peut être grimpé de 30% à 50% de la cible plate de molybdène jusqu'> à 80% de la cible rotatoire de molybdène. En outre, si la vie du matériel de cible est mesurée en multipliant la puissance de pulvérisation par le temps de pulvérisation, la vie de la cible tournante de molybdène est 5 fois plus longtemps que cela de la cible plate de molybdène. Puisque la cible rotatoire de molybdène tourne sans interruption pendant le processus de pulvérisation, il n'y aura aucun dépôt lourd sur sa surface.
4. contenu chimique de cible rotatoire de pulvérisation de molybdène pour la cible de magnétron :
| Analyse quantitative | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Élément | Ni | Magnésium | Fe | Pb | Al | Bi | SI | Cd | Ca | P | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Concentration (%) | 0,003 | 0,002 | 0,005 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,001 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Élément | C | O | N | Sb | Sn | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Concentration (%) | 0,01 | 0,003 | 0,003 | 0,0005 | 0,0001 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Pureté (socle métallique) MOIS ≥99.95% | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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