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David

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John Morris

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Jorge

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PETRA

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Cible de couche de sputter de haute pureté de tantale Cible de disque de tantale 99,95% 99,999%

Lieu d'origine	Chine
Nom de marque	PRM
Certification	ISO9001
Numéro de modèle	La coutume
Quantité de commande min	1pc
Prix	Negotiate
Détails d'emballage	Boîtier en contreplaqué
Délai de livraison	7~10 jours de travail
Conditions de paiement	T/T, L/C
Capacité d'approvisionnement	5000kgs/mois

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Détails sur le produit

Nom	Cible de revêtement par pulvérisation de tantale	Grade	Le montant de la subvention est calculé sur la base de la valeur ajoutée de la subvention.
La pureté	99Je ne sais pas.	Forme	Disque et plaque
Taille	Selon le dessin du client	Densité	16.75g/cm3

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Description de produit

Cible de sputter de haute pureté pour revêtement de tantale Cible de disque de tantale

1. Spécifications d'une épaisseur d'environ 0,8 mm

Cible de traitement par pulvérisation au tantale

Les matériaux utilisés sont les suivants: R05200, R05400, R05252 (Ta-2,5W), R05255 (Ta-10W)

Objectifs circulaires: diamètre 25 mm ~ 400 mm x épaisseur 3 mm ~ 28 mm

Objectifs rectangulaires: épaisseur 1 mm ~ 12,7 mm x largeur < 600 mmx longueur < 2000 mm

Purification: >= 99,95% ou 99,99%

Surface: brillante, polissée

Condition: recuit

Nous pouvons également traiter selon votre demande.

Grade	3N, 3N5, 4N, avec Ta 99,99%min
Récristallisation	95% en moins
Taille du grain	ASTM 4 ou plus fin
Finition de surface	16 Rms maximum ou Ra 0,4 (RMS 64 ou supérieur)
Plateur	00,1 mm ou 0,15% maximum
La tolérance	+/- 0,010" sur toutes les dimensions

Cible de couche de sputter de haute pureté de tantale Cible de disque de tantale 99,95% 99,999% 0

2Composition chimiqued'une épaisseur d'environ 0,8 mm

Grade	Contenu en éléments%)
Grade	C	N	Je vous en prie.	H est	Le Fe	Je sais.	Je ne sais pas	- Je vous en prie.	Je vous en prie.	W	Nb	Je vous en prie.
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	Restez!
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	Restez!
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5 à 3.5	Restez!
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17 à 23	Restez!
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35 à 42	Restez!
Le TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0 à 3.5	0.5	Restez!
Le TaW7.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5 à 8.5	0.5	Restez!
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0 à 11	0.1	Restez!

3. Applicationd'une épaisseur d'environ 0,8 mm

La cible de pulvérisation du tantale est une feuille de tantale obtenue par traitement sous pression.Il est principalement utilisé dans les fibres optiquesPour les revêtements de dépôt par pulvérisation, des cibles de tantale peuvent être utilisées pour les revêtements de pulvérisation par cathode, les matériaux actifs à haut dépôt sous vide, etc.et sont des matériaux importants pour la technologie des films minces.

4L' avantage de notre cible:

- une surface polie de haute qualité.
- le grain uniforme avec une microstructure densifiée assure une durée d'utilisation plus longue.

- un service après-vente professionnel.

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Cible de couche de sputter de haute pureté de tantale Cible de disque de tantale 99,95% 99,999% 3

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