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David

Bonne société avec le service gentil et la réputation de haute qualité et élevée. Un de notre fournisseur digne de confiance, des marchandises sont livrés à temps et le paquet gentil.
John Morris

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Jorge

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PETRA

par la communication très bonne tous les problèmes résolus, satisfait avec mon achat
Adrian Hayter

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Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

Lieu d'origine	La Chine
Nom de marque	PRM
Certification	ISO9001
Numéro de modèle	personnalisation
Quantité de commande min	1pc
Prix	Negotiate
Détails d'emballage	boîtier en contreplaqué
Délai de livraison	5 à 7 jours
Conditions de paiement	T/T
Capacité d'approvisionnement	5tons/month

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Si vous avez n'importe quel souci, nous fournissons l'aide en ligne de 24 heures.

Détails sur le produit

Nom	Cible de traitement de Tantalum	Grade	Le montant de la subvention est calculé en fonction des coûts de production.
La pureté	≥99.95%	Densité	160,68 g/cm3
Surface	Surface usinée	La norme	Pour l'aéronef
Statut de la livraison	à l'étain	Forme	Cible plate Cible tournante Personnalisation en forme spéciale
Mettre en évidence	Cible de la couche optique au tantale , Cible de pulvérisation du tantale pour revêtement PVD , Cible de pulvérisation de tantale pour revêtement de semi-conducteurs

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Description de produit

Informations sur le produit:

Nom	Cible de tantale pour revêtement PVD
Grade	Le montant de la subvention est calculé en fonction des coûts de production.
La pureté	≥ 99,95%
Densité	160,68 g/cm³
Surface	Surfaces usinées, sans fissures, rayures, taches, écailles et autres défauts
La norme	Pour l'utilisation dans les machines à coudre
Forme	Cible plate, cible tournante, personnalisation de forme spéciale

Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique 0

Contenu chimique de la cible de tantale pour revêtement PVD:

Grade	Principaux éléments		Contenu d'impuretés inférieur à %
	Je vous en prie.	Nb	Le Fe	Je sais.	Je ne sais pas	W	Je vous en prie.	- Je vous en prie.	Nb	Je vous en prie.	C	H est	N
Ta1	Restez!	Je ne sais pas.	0.005	0.005	0.002	0.01	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
Ta2	Restez!	Je ne sais pas.	0.03	0.02	0.005	0.04	0.03	0.005	0.1	0.03	0.01	0.0015	0.01
TaNb3	Restez!	< 3.5	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	Je ne sais pas.	0.03	0.01	0.0015	0.01
TaNb20	Restez!	17.023. Je suis désolé.0	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	Je ne sais pas.	0.03	0.01	0.0015	0.01
Ta2,5 W	Restez!		0.005	0.005	0.002	3	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
Ta10W	Restez!		0.005	0.005	0.002	11	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01

Caractéristique de la cible au tantale PVD:

Points de fusion élevés,
basse pression de vapeur,
Une bonne performance de travail à froid,
une stabilité chimique élevée,
une résistance élevée à la corrosion des métaux liquides,
Le film d'oxyde de surface a une grande constante diélectrique

Applications:

La cible en tantale et la cible en cuivre sont soudés, puis une pulvérisation par semi-conducteur ou optique est effectuée,et les atomes de tantale sont déposés sur le substrat sous forme d'oxydes pour obtenir un revêtement de pulvérisationLes cibles de tantale sont principalement utilisées dans les revêtements de semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres industries.Le métal (Ta) est actuellement principalement utilisé pour revêtir et former une couche de barrière par dépôt de vapeur physique (PVD) en tant que matériau cible.

Nous pouvons traiter selon le dessin du client, et produire Ta barre, plaque, fil, feuille, crucible etc.

Veuillez nous envoyer une demande pour plus d'informations

Étiquettes:

Cible de pulvérisation du tantale pour le revêtement des semi-conducteurs et le revêtement optique

Cible de la couche optique au tantale

Cible de pulvérisation du tantale pour revêtement PVD

Cible de pulvérisation de tantale pour revêtement de semi-conducteurs